【半導体製造に不可欠な材料のフォトレジスト】東京応化工業(4186)さまの講演メモ。 | 三井智映子オフィシャルブログ「ちえこのなかみ」 powered by アメブロ

【半導体製造に不可欠な材料のフォトレジスト】東京応化工業(4186)さまの講演メモ。

Ciaoニコニコ

東京セミナー、無事に終わりました!


ご一緒させていただきました東京応化工業(4186)さまの講演メモを共有させてください。(あくまで個人的なメモなので、参考程度にしていただければ幸いです。)


半導体製造に不可欠な材料である「フォトレジスト」を主力とする化学メーカーであり、いわば半導体産業の根幹を支える存在です。

フォトレジストは、半導体の回路パターンをウエハー上に転写する露光工程で使用される材料であり、その性能が最終的な半導体の精度や性能を大きく左右します。

したがって同社は単なる素材メーカーではなく、「半導体の性能そのものに関与する企業」として位置づけることができます。

またフォトレジストのパイオニア企業としてフルラインナップ戦略を打ち出しており、フォトレジストに加えて現像液や洗浄液といった周辺材料も手掛けているため、前工程、後工程どちらにも需要があり、情報端末、クラウド、センシング&IoT、グリーンエネルギーと様々な成長分野に適用可能とのこと。


また何よりも技術的な参入障壁の高さは強みだと感じます。

特に注目すべきは、最先端のEUV(極端紫外線)リソグラフィ向けフォトレジストの分野です。半導体の微細化が進む中でEUV技術の重要性は急速に高まっており、この分野で求められる技術水準は極めて高く、参入できる企業は世界的にも限られています。

実際に、EUV用フォトレジスト市場は年平均30%を超える成長が見込まれており、同社はその高成長領域にポジションを有していることになります。

加えて、フォトレジストは一度採用されると製造プロセス全体に深く組み込まれるため、簡単には他社製品へ切り替えることができません。歩留まりや品質に直結するため、顧客側にとって変更リスクが大きく、結果として長期的な取引関係が維持されやすい構造となっています。この点は、同社の収益が比較的安定しやすい理由の一つと言えるでしょう。


さらに、同社はグローバル市場でのシェア拡大を明確に戦略として掲げています。中期計画において「先端レジストのグローバルシェアNo.1」を目標としており、半導体メーカーのグローバル大手との関係構築を通じて成長を取り込む姿勢が示されています。

成長性の観点ではまず前提として半導体市場自体が拡大基調にあります。2030年には市場規模が1兆ドルに達するとの見通しがあり、年平均でも7%台の安定成長が期待されています。AIやデータセンター、自動運転などの分野において半導体需要は構造的に増加しており、この流れは中長期的にも続くと考えられます。

その中で、フォトレジスト市場はさらに高い成長が見込まれており、特にEUV領域では30%を超える高い成長率が予測されています。つまり、半導体市場全体の拡大に加え、より付加価値の高い分野での成長を取り込める点が同社の強みです。

こうした環境を背景に、同社の中期計画でも着実な成長が見込まれています。売上高は2025年度の2,370億円から2027年度には2,950億円へ、営業利益は473億円から580億円へと拡大する計画です。EBITDAも561億円から720億円へと増加する見通しであり、単なる売上の拡大だけでなく、収益性の向上も伴った成長が期待されています。目標を上方修正されている点もポイントです。

これは、EUVをはじめとする高付加価値製品の比率が高まっていくことを示唆しており、同社のビジネスモデルがより強固になっていく可能性を示しています。


短期的には半導体市況の変動に影響を受けるシクリカルな側面はあるものの(チャート的にはカップウィズハンドル的な値動きにも見えます。)



中長期的には技術革新とともに需要が拡大する構造にあり、その恩恵を享受しやすいポジションにあります。特に、半導体の微細化・高性能化が進むほどフォトレジストの重要性は高まるため、技術進化そのものが成長ドライバーになる企業と言えそうです。






川田さま、ご講演ありがとうございました!